光刻机
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EUV光刻机是生产最新、最强大芯片必要设备,目前由ASML独家进行研发、制造,ASML公司掌握80%的国际市场份额,市面上无法寻找到其他替代品
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2025-03-27 04:24 来自 科创板日报记者 吴旭光
① 高端ArF光刻胶领域,国产企业基本都还在研发、验证阶段;
②公司表示,与国内大部分厂商所生产的g/i系列光刻胶应用于6英寸、8英寸晶圆制造不同,恒坤新材生产的同类型产品应用于12英寸晶圆制造;
③各大晶圆厂商鼓励并支持同一家光刻材料企业能够尽可能供应多种光刻材料。
②公司表示,与国内大部分厂商所生产的g/i系列光刻胶应用于6英寸、8英寸晶圆制造不同,恒坤新材生产的同类型产品应用于12英寸晶圆制造;
③各大晶圆厂商鼓励并支持同一家光刻材料企业能够尽可能供应多种光刻材料。
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2025-03-12 05:37 来自 FNnews
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2025-01-13 05:56
2025-01-07 07:19 来自 科创板日报 张真
①据悉,大孔径铥激光器或有望取代EUV采用的二氧化碳激光器;
②BAT系统使用掺铥元素的氟化钇锂作为增益介质,从而增加激光束的功率和强度;
③此外,BAT系统中使用的二极管泵浦固态技术可以提供更好的整体电气效率和热管理。
②BAT系统使用掺铥元素的氟化钇锂作为增益介质,从而增加激光束的功率和强度;
③此外,BAT系统中使用的二极管泵浦固态技术可以提供更好的整体电气效率和热管理。
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2025-01-06 07:26 来自 台湾电子时报
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