财联社3月14日电，南大光电在互动平台表示，ArF光刻胶有少量供货，尚未规模量产。光刻胶扩产计划需根据产品订单情况确定。ArF光刻胶是先进集成电路芯片制造的关键材料，在193nm光源下有较高的透明性和抗刻蚀性等，可以广泛应用于各种高端IC芯片的生产制造。